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コスメディ製薬 melnee メルニー ポジティブスキンマスク 濃密保湿
マスク
情報更新日: 2026年6月21日
- コスメディ製薬 melnee メルニー ポジティブスキンマスク 濃密保湿にはどんな成分が入っている?
- cosfinのデータベースには全37件の成分が表示順(配合量が多い順の記載順)で登録されています(2026年6月21日時点)。個別の成分は本ページ下部の一覧で確認できます。
- コスメディ製薬 melnee メルニー ポジティブスキンマスク 濃密保湿のJANコードは?
- cosfinのデータベースにはJANコードが未登録です(2026年6月21日時点)。
- JANコード
- 不明
- カテゴリ
- マスク
※本ページは商品に含まれる成分の事実情報の表示であり、効果・効能を保証または示唆するものではありません。肌に合うかどうかは個人差があり、気になる症状は皮膚科医にご相談ください。
全成分(37件・表示順)
- 1水Water、Aqua(EU)
- 2BGButylene Glycol
- 3グリセリンGlycerin
- 4タウリンTaurine
- 5ダマスクバラ花エキスRosa Damascena Flower Extract
- 6ヒアルロン酸NaSodium Hyaluronate
- 7セラミドNPCeramide NP
- 8エクトインEctoin
- 9加水分解コラーゲンHydrolyzed Collagen
- 10ベタインBetaine
- 11グルタチオンGlutathione
- 123-O-エチルアスコルビン酸3-O-Ethyl Ascorbic Acid
- 13(アスコルビル/トコフェリル)リン酸KPotassium Ascorbyl Tocopheryl Phosphate
- 14アスコルビルグルコシドAscorbyl Glucoside
- 15ナイアシンアミドNiacinamide
- 16グリチルリチン酸2KDipotassium Glycyrrhizate
- 17パンテノールPanthenol
- 18アゼロイルジグリシンKPotassium Azeloyl Diglycinate
- 19DNA-NaSodium DNA
- 20ツボクサ葉小胞Centella Asiatica Leaf Vesicles
- 21シルクSilk Powder、Silk
- 22チャ葉エキスCamellia Sinensis Leaf Extract
- 23ソメイヨシノ葉エキスPrunus Yedoensis Leaf Extract
- 24モモ葉エキスPrunus Persica (Peach) Leaf Extract
- 25ラフィノースRaffinose
- 26シロキクラゲ多糖体Tremella Fuciformis Polysaccharide
- 27テトラヒドロキシプロピルエチレンジアミンTetrahydroxypropyl Ethylenediamine
- 28カラメルCaramel
- 291,2-ヘキサンジオール1,2-Hexanediol
- 30水添レシチンHydrogenated Lecithin
- 31フィトステロールズPhytosterols
- 32ペンチレングリコールPentylene Glycol
- 33カプリリルグリコールCaprylyl Glycol
- 34セルロースガムCellulose Gum
- 35キサンタンガムXanthan Gum
- 36(アクリレーツ/アクリル酸アルキル(C10-30))クロスポリマーAcrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer
- 37フェノキシエタノールPhenoxyethanol