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サンスマイル JMソリューションジャパン モデリングマスク センテラ(ベースゲル)
マスク
情報更新日: 2026年6月21日
- サンスマイル JMソリューションジャパン モデリングマスク センテラ(ベースゲル)にはどんな成分が入っている?
- cosfinのデータベースには全34件の成分が表示順(配合量が多い順の記載順)で登録されています(2026年6月21日時点)。個別の成分は本ページ下部の一覧で確認できます。
- サンスマイル JMソリューションジャパン モデリングマスク センテラ(ベースゲル)のJANコードは?
- cosfinのデータベースにはJANコードが未登録です(2026年6月21日時点)。
- JANコード
- 不明
- カテゴリ
- マスク
※本ページは商品に含まれる成分の事実情報の表示であり、効果・効能を保証または示唆するものではありません。肌に合うかどうかは個人差があり、気になる症状は皮膚科医にご相談ください。
全成分(34件・表示順)
- 1水Water、Aqua(EU)
- 2DPGDipropylene Glycol
- 3PEG-75PEG-75
- 4メチルプロパンジオールMethylpropanediol
- 5アルギン酸NaAlgin
- 6グリセリンGlycerin
- 7PEG/PPG-17/6コポリマーPEG/PPG-17/6 Copolymer
- 8塩化KPotassium Chloride
- 9プロパンジオールPropanediol
- 10キサンタンガムXanthan Gum
- 11カプリル酸グリセリルGlyceryl Caprylate
- 12エチルヘキシルグリセリンEthylhexylglycerin
- 13酸化クロムChromium Oxide Greens
- 14酸化チタンTitanium Dioxide
- 15ジェランガムGellan Gum
- 16EDTA-2NaDisodium EDTA
- 17アラントインAllantoin
- 18ツボクサエキスツボクサエキス
- 191,2-ヘキサンジオール1,2-Hexanediol
- 20BGButylene Glycol
- 21セラミド3(Retired) Ceramide 3
- 22スベリヒユエキスPortulaca Oleracea Extract
- 23メリアアザジラクタ花エキスMelia Azadirachta Flower Extract
- 24ドクダミエキスHouttuynia Cordata Extract
- 25ヒノキ水Chamaecyparis Obtusa Water
- 26ティーツリー葉エキスMelaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Extract
- 27β-グルカンBeta-Glucan
- 28ヒアルロン酸ヒドロキシプロピルトリモニウムHydroxypropyltrimonium Hyaluronate
- 29ヒアルロン酸NaSodium Hyaluronate
- 30加水分解ヒアルロン酸Hydrolyzed Hyaluronic Acid
- 31温泉水温泉水
- 32マデカシン酸Madecassic Acid
- 33アシアチコシドAsiaticoside
- 34アシアチン酸Asiatic Acid