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ハイサイド アンプルール(AMPLEUR) 耐汗UVベース
日焼け止め
情報更新日: 2026年8月17日
- ハイサイド アンプルール(AMPLEUR) 耐汗UVベースにはどんな成分が入っている？
- cosfinのデータベースには全32件の成分が表示順（配合量が多い順の記載順）で登録されています（2026年8月17日時点）。個別の成分は本ページ下部の一覧で確認できます。
- ハイサイド アンプルール(AMPLEUR) 耐汗UVベースのJANコードは？
- cosfinのデータベースにはJANコードが未登録です（2026年8月17日時点）。
- JANコード
- 不明
- カテゴリ
- 日焼け止め
※本ページは商品に含まれる成分の事実情報の表示であり、効果・効能を保証または示唆するものではありません。肌に合うかどうかは個人差があり、気になる症状は皮膚科医にご相談ください。
全成分（32件・表示順）
- 1シクロペンタシロキサンCyclopentasiloxane
- 2水Water、Aqua(EU)
- 3酸化亜鉛Zinc Oxide
- 4ＢＧButylene Glycol
- 5酸化チタンTitanium Dioxide
- 6ラウリン酸ヘキシルHexyl Laurate
- 7ＰＥＧ－１０ジメチコンPEG-10 Dimethicone
- 8シリカSilica
- 9イソノナン酸イソトリデシルIsotridecyl Isononanoate
- 10フェノールスルホン酸亜鉛Zinc Phenolsulfonate
- 11ジメチコンDimethicone
- 12ＰＥＧ－９ポリジメチルシロキシエチルジメチコンPEG-9 Polydimethylsiloxyethyl Dimethicone
- 13スクワランSqualane
- 14α－グルカンオリゴサッカリドAlpha-Glucan Oligosaccharide
- 15ノイバラ果実エキスRosa Multiflora Fruit Extract
- 16オウゴン根エキスScutellaria Baicalensis Root Extract
- 17テンニンカ果実エキスRhodomyrtus Tomentosa Fruit Extract
- 18ビルベリー葉エキスVaccinium Myrtillus Leaf Extract
- 19ヒアルロン酸NaSodium Hyaluronate
- 20加水分解ヒアルロン酸Hydrolyzed Hyaluronic Acid
- 21ハイドロゲンジメチコンハイドロゲンジメチコン
- 22（ベヘン酸／エイコサン二酸）グリセリルGlyceryl Behenate/Eicosadioate
- 23イソステアリン酸ソルビタンSorbitan Isostearate
- 24ポリヒドロキシステアリン酸Polyhydroxystearic Acid
- 25（ジメチコン／ビニルジメチコン）クロスポリマーDimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer
- 26ジステアルジモニウムヘクトライトDisteardimonium Hectorite
- 27水酸化ＡｌAluminum Hydroxide
- 28酸化鉄Iron Oxides
- 29硫酸ＭｇMagnesium Sulfate
- 30トコフェロールTocopherol
- 31ＥＤＴＡ－２ＮａDisodium EDTA
- 32フェノキシエタノールPhenoxyethanol